掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 雙束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-06-14
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-06-14
德Neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測量。
更新時(shí)間:2025-06-14
太赫茲近場光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號(hào)空間分辨率
更新時(shí)間:2025-06-14
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時(shí)間:2025-06-14
日本電子JEOL場發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會(huì)社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時(shí)將分辨率提高到新的限，全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時(shí)完成，而且標(biāo)配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-06-14
蔡司電腦斷層掃描測量機(jī)2022動(dòng)態(tài)已更新《采購/推薦》
蔡司電腦斷層掃描測量機(jī)-多探頭測量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū)，并且能夠在生產(chǎn)周期中對(duì)組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-06-13
韓國SEC掃描電子顯微鏡
sne-3000ms系列產(chǎn)品是針對(duì)工廠和實(shí)驗(yàn)室配置的一款高端掃描電鏡.
更新時(shí)間:2025-06-13
韓國賽可臺(tái)式掃描電鏡4500
table-sem (臺(tái)式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機(jī) - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲(chǔ)存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時(shí)間:2025-06-13
韓國SEC掃描電子顯微鏡采購價(jià)格
sne-3000ms系列產(chǎn)品是針對(duì)工廠和實(shí)驗(yàn)室配置的一款高端掃描電鏡.
更新時(shí)間:2025-06-13
韓國賽可臺(tái)式掃描電鏡4500主要功能
table-sem (臺(tái)式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機(jī) - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲(chǔ)存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom Pro
飛納高分辨率業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進(jìn)的產(chǎn)品，第五代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 150,000 倍，分辨率優(yōu)于 8 nm，30 快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡大樣品室卓越版
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用 的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納電鏡全景拼圖【新品】
全新界面，一鍵掃描更便捷掃描“形狀”自定義大樣品全景觀測高清圖像無錯(cuò)位
更新時(shí)間:2025-06-13
Phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-06-13
Phenom臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間：10；樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡業(yè)版Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom Pro
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡
荷蘭飛納公司隆重推出飛納卓越版飛納臺(tái)式掃描電鏡 phenom xl
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡電鏡能譜一體機(jī)
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-13
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡物相分析軟件
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易，更全面，更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-06-13
ChemiSEM 彩色成像技術(shù)
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-06-13
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件，可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-13
FEI臺(tái)式掃描電鏡Phenom飛納 標(biāo)準(zhǔn)版
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-06-13
FEI臺(tái)式掃描電鏡飛納（Phenom） 業(yè)版
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納（Phenom）臺(tái)式掃描電鏡 能譜版
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)；诟吡炼 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-06-13
陰極發(fā)射體
陰極/發(fā)射器既有標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品，也有定制設(shè)計(jì)，應(yīng)用包括電子顯微鏡、光刻、x射線生成、自由電子激光器、電子加速器等。
更新時(shí)間:2025-06-13
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能，讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-06-13
日本電子熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本電子熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于納米材料、化學(xué)、新材料、半導(dǎo)體器件的觀察和分析。
更新時(shí)間:2025-06-13
和伍水浸超聲掃描顯微鏡半導(dǎo)體缺陷檢測儀
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測成像設(shè)備，主要利用高頻超聲波，對(duì)各類半導(dǎo)體器件、材料進(jìn)行檢測，能夠檢測出樣品內(nèi)部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會(huì)對(duì)樣品造成損傷，不會(huì)影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導(dǎo)體、電力電子、熱管理材料、金剛石復(fù)合材料、碳纖維復(fù)合材料等行業(yè)需求。
更新時(shí)間:2025-06-13
SS-60系列掃描電子顯微鏡
ss-60系列臺(tái)式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小；放大倍率30 ~60,000 x，15nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；ss-60掃描電鏡具有強(qiáng)大軟件功能,操作簡單,易于維護(hù)；國產(chǎn)掃描電鏡，良好售后服務(wù)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-06-13
SS-150系列掃描電鏡
ss-150系列臺(tái)式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間。环糯蟊堵30~150,000 x ；5nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；通過選配eds可進(jìn)行元素成份分析；ss-150系列掃描電鏡具有強(qiáng)大軟件功能,操作簡單,易于維護(hù)；國產(chǎn)掃描電鏡，良好售后服務(wù)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-06-13
日本JEOL 掃描電子顯微鏡JSM-IT510 InTouchScope™
掃描電子顯微鏡 (sem) 不僅是開展科研工作所必不可少的工具，對(duì)于需要品控的制造工廠也是不可或缺的。 在這些場景中，用戶需要重復(fù)執(zhí)行相同的觀察操作，因此快速完成這些操作有助于提高工作效率。 jsm-it510 新增的“簡單 sem”功能，用戶可將 sem 觀察所需的“手動(dòng)重復(fù)操作交給它”，從而更高效、更輕松地完成 sem 觀察。
更新時(shí)間:2025-06-13
TESCAN--場發(fā)射掃描電鏡 MIRA
ui新一代的mira場發(fā)射掃描電鏡給用戶帶來了zui新的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)（如改進(jìn)的高性能電子設(shè)備使成像過程更快，快速掃描系統(tǒng)包括了動(dòng)態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補(bǔ)償，有內(nèi)置的編程軟件等），同時(shí)保持著zui高的性價(jià)比。mira3的設(shè)計(jì)適用于各種各樣的sem應(yīng)用及當(dāng)今研究和產(chǎn)業(yè)的需求。大電子束流下的高分辨率有利于分析應(yīng)用，例如：ebsd、wdx等分析。mira3場發(fā)射掃描電鏡可配置lm、xm或gm三種樣品室。
更新時(shí)間:2025-06-13

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑