光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

Vizard交互虛擬現(xiàn)實(shí)開發(fā)平臺(tái)
vizard交互虛擬現(xiàn)實(shí)開發(fā)平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-09-11
ErgoLAB人機(jī)環(huán)境同步云平臺(tái)
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)。人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)是由津發(fā)公司安全獨(dú)立自主開發(fā)的系統(tǒng)，是一個(gè)專業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機(jī)工程研究中人機(jī)環(huán)境數(shù)據(jù)采集且操作簡(jiǎn)便的多元數(shù)據(jù)同步分析平臺(tái)。該系統(tǒng)與許多人因工程學(xué)、
更新時(shí)間:2025-09-11
ANSYS自動(dòng)駕駛仿真驗(yàn)證平臺(tái)
1.      系統(tǒng)方案ansys高精度自動(dòng)駕駛仿真驗(yàn)證平臺(tái)提供了基于物理的三維場(chǎng)景建模、基于語(yǔ)義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達(dá)的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達(dá)的仿真，從而實(shí)現(xiàn)多傳感器
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案ErgoLABInteraction交互行為分析平臺(tái)
ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學(xué)”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測(cè)評(píng)與分
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案ErgoLAB虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)
ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)一、平臺(tái)簡(jiǎn)介ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)由ergolab人因測(cè)試子平臺(tái)、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺(tái)、ergolab人因心理試驗(yàn)臺(tái)等部分組成。平臺(tái)融合了認(rèn)知與心理測(cè)試、生理測(cè)量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案ErgoLAB組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)
ergolab組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)一、平臺(tái)概述ergolab組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號(hào)記錄工具，適用于多種實(shí)驗(yàn)環(huán)境。平臺(tái)采用多傳感器融合技術(shù)及算法，單個(gè)傳感器能夠采集多通道生
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案PsyLAB心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)
psylab心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案PsyLAB人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)
psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及
更新時(shí)間:2025-09-11
解決方案PsyLAB智能人因測(cè)試云平臺(tái)
psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為
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解決方案PsyLAB心理測(cè)試云平臺(tái)
psylab心理測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式
更新時(shí)間:2025-09-11
ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)一、平臺(tái)簡(jiǎn)介ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)由ergolab人因測(cè)試子平臺(tái)、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺(tái)、ergolab人因心理試驗(yàn)臺(tái)等部分組成。平臺(tái)融合了認(rèn)知與心理測(cè)試、生理測(cè)量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時(shí)間:2025-09-11
PsyLAB人因測(cè)試云平臺(tái)
psylab人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式的施測(cè)。系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-09-11
交互虛擬現(xiàn)實(shí)開發(fā)平臺(tái)
交互虛擬現(xiàn)實(shí)開發(fā)平臺(tái)vizard虛擬現(xiàn)實(shí)軟件工具包括建立互動(dòng)的3d內(nèi)容所需要的一切遵循快速原型設(shè)計(jì)原則，vizard使您快速創(chuàng)建內(nèi)容并提供豐富資源庫(kù)，甚至zui具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用案例。使用vizard，甚至沒(méi)有編程經(jīng)驗(yàn)的人也可以輕松建立互動(dòng)的3d內(nèi)容：快速呈現(xiàn)互動(dòng)3d刺激：有豐富的資源庫(kù)，無(wú)論有無(wú)編程經(jīng)驗(yàn)，都可以快速地呈現(xiàn)刺激;
更新時(shí)間:2025-09-11
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2025-09-11
日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2025-09-11
日本JEOL能譜儀
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過(guò)與sem的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)聯(lián)動(dòng)使用，可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過(guò)檢測(cè)被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
更新時(shí)間:2025-09-11
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無(wú)縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時(shí)間:2025-09-11
日本JEOL 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒(méi)式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無(wú)論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:2025-09-11
百及納米PancanNano電子束光刻機(jī)
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場(chǎng)拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:2025-09-11
型紫外單面光刻機(jī)（臺(tái)式）
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)（臺(tái)式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：±1μm
更新時(shí)間:2025-09-11
型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時(shí)間:2025-09-11
URE-2000B 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）
更新時(shí)間:2025-09-11
URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對(duì)準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時(shí)間:2025-09-11
無(wú)掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無(wú)掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時(shí)間:2025-09-11
型無(wú)掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無(wú)掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動(dòng)）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動(dòng)化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非？煽，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長(zhǎng)）
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外雙面光刻機(jī)型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000s/25a 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，分辨力：1 μm
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸，正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過(guò) ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積：6 英寸，對(duì)準(zhǔn)精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積：8 英寸, 曝光波長(zhǎng)：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對(duì)準(zhǔn)精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時(shí)間:2025-09-11
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過(guò) ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過(guò) ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2025-09-11
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機(jī), 曝光面積：4 英寸, 正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過(guò) ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/30 型紫外單面光刻機(jī),高倍率雙目雙視場(chǎng)顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時(shí)觀察對(duì)準(zhǔn)過(guò)程，并提供 usb 輸出；既滿足高精度對(duì)準(zhǔn)，又可用于檢測(cè)曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和方便存儲(chǔ)
更新時(shí)間:2025-09-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35al 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波長(zhǎng)）,對(duì)準(zhǔn)精度：≤±0.8μm
更新時(shí)間:2025-09-11
奧地利SmartNIL紫外納米壓印
奧地利smartnil紫外納米壓印：evg7200，leds 制作，led pss納米壓印工藝，led納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細(xì)胞生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-09-11
奧地利EVG掩膜光刻機(jī)
evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，可處理大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應(yīng)用，如鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統(tǒng)中的工具更換非常簡(jiǎn)便快捷，每次更換都可在一分鐘之內(nèi)完成，而不需要門的工程人員和培訓(xùn)，非常適合大學(xué)、研究所的科研實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-09-11
奧地利EVG鍵合機(jī)
奧地利evg鍵合機(jī)：evg510，是一款半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)，可以處理大200mm的晶圓，非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。evg510提供了除上料和下料外的全自動(dòng)工藝處理過(guò)程，并配備了業(yè)界公認(rèn)的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統(tǒng)。evg510模塊化的鍵合腔室設(shè)計(jì)可用于150mm或200mm晶圓鍵合，并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機(jī)相匹配，可以方便的實(shí)現(xiàn)從實(shí)驗(yàn)線到量產(chǎn)線的工藝復(fù)制。
更新時(shí)間:2025-09-11
奧地利EVG鍵合機(jī)
evg520is是一款設(shè)計(jì)用于小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)， 大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術(shù)及客戶反饋基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的evg520is，配備了evg公司的利吸盤設(shè)計(jì)---這種吸盤可以提供對(duì)稱的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢(shì)特性，如獨(dú)立的上下盤加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等，都幫助客戶很好的實(shí)施鍵合研究和生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-09-11
奧地利EVG單雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能）
evg620 單面/雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能），evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備，可配置為半自動(dòng)也可以為全自動(dòng)形式。evg620 既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作 150mm 硅片的精確對(duì)準(zhǔn)設(shè)備；既可以用作研發(fā)設(shè)備，也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補(bǔ)償
更新時(shí)間:2025-09-11
日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置
ne-550z是高真空l(shuí)oad-lock式干法等離子刻蝕裝置，適用于半導(dǎo)體材料、金屬材料等的精細(xì)刻蝕
更新時(shí)間:2025-09-11
日本Ulvac返回式真空濺射裝置
返回式真空濺射裝置 cs-200z，高真空交直流濺射設(shè)備.適用于金屬、合金 、陶瓷材料的高品質(zhì)濺射成膜.
更新時(shí)間:2025-09-11
美國(guó)Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)
美國(guó)neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法
更新時(shí)間:2025-09-11
氮化鎵支撐片，晶片，硅片
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時(shí)間:2025-09-11
法國(guó)Annealsys 高溫退火爐
法國(guó)annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽(yáng)能電池& mems.
更新時(shí)間:2025-09-11
德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì)，可以裝配各種源爐，實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-09-11
德國(guó)UnitemP真空快速退火爐
德國(guó)unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達(dá)150k/s
更新時(shí)間:2025-09-11
美國(guó) OAI 光刻機(jī) Model 200 型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)器系統(tǒng)
美國(guó) oai 光刻機(jī) model 200 型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)器系統(tǒng)，完全手工操作，輸出光譜范圍:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm線，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
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