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等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)

  • 市場(chǎng)價(jià)格: 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào): PD-270STLC
  • 更新時(shí)間: 2025/6/13 9:35:19
  • 生產(chǎn)地: 日本
  • 訪問次數(shù): 513次
  • 公司名稱: 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

企業(yè)檔案

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

4 營(yíng)業(yè)執(zhí)照已上傳

企業(yè)類型:經(jīng)銷商

公司地址:廣東深圳市

主營(yíng)產(chǎn)品:冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā),熱蒸發(fā),脈沖激光沉積,化學(xué)氣相沉積

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

PD-270STLC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng),可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco獨(dú)特的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)TEOS源,以低應(yīng)力沉積SiO2薄膜,從薄膜到厚的薄膜(高達(dá)100 µm)。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø236毫米的托架實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量,可安裝三個(gè)ø4英寸的晶圓。

詳細(xì)內(nèi)容

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

1. 產(chǎn)品概述

PD-270STLC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng),可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco獨(dú)特的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術(shù)和液態(tài)TEOS源,以低應(yīng)力沉積SiO2薄膜,從薄膜到厚的薄膜(高達(dá)100 µm)。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø236毫米的托架實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量,可安裝三個(gè)ø4英寸的晶圓。

2. 設(shè)備用途/原理

塑料材料上保護(hù)膜的沉積在3D LSI的通孔側(cè)壁上沉積絕緣膜。光波導(dǎo)的制造(光纖芯/包層)。制造用于微型機(jī)械生產(chǎn)的面罩。覆蓋高縱橫比結(jié)構(gòu),如MEMS器件。SAW設(shè)備的溫度補(bǔ)償膜和鈍化膜。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大加工尺寸為ø236mm的托架(ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)。陰耦合自偏析沉積技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)低應(yīng)力薄膜的高速(>300nm/min)沉積。通過低溫沉積,可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結(jié)構(gòu)的優(yōu)秀階梯覆蓋率。使用鍺、磷、硼液源控制折射率。優(yōu)異的工藝均勻性和可重復(fù)性。                                                                                       


關(guān)鍵詞:等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)  PD-270STLC  SAMCO  

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