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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

DaLI無掩膜納米光刻機(jī)是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設(shè)備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米精度要求的儀器設(shè)備中經(jīng)過十幾年的應(yīng)用檢驗(yàn)。超高精度，和超高穩(wěn)定性是DaLI無掩膜納米光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)高性能的基礎(chǔ)。

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

miDALIX的核心技術(shù)源于Aresis的AOD高精度激光操控技術(shù)。Aresisd.o.o.是一家立足于高校和研究所的科研型高科技公司。在過去的二十多年中，Aresis一直致力于基于聲光偏轉(zhuǎn)技術(shù)（AOD）的各種激光操控研究，并成功地將其研究成果應(yīng)用于成熟穩(wěn)定的科研設(shè)備開發(fā)實(shí)踐中�；谠诟咚貯OD應(yīng)用域的深厚技術(shù)積累，Aresis開發(fā)了Tweez系列高速多光阱納米光鑷系統(tǒng)和DaLI高精度無掩膜納米光刻機(jī)。為范圍內(nèi)的科研工作者提供了技術(shù)先進(jìn)、性能穩(wěn)定的科研工具，得到了用戶的廣泛好評(píng)。

基本特點(diǎn)

超穩(wěn)定，長(zhǎng)時(shí)效375nm激

相對(duì)于其它各種光源，在精密光學(xué)儀器應(yīng)用中，激光光源在光束質(zhì)量，穩(wěn)定性，耐用性等方面具有無與倫比的優(yōu)越性。DaLI無掩膜納米光刻機(jī)采用優(yōu)的激光光源，以保證超一流的性能和用戶體驗(yàn)。

廣泛的適應(yīng)性

DaLI無掩膜納米光刻機(jī)廣泛適用于各種I-line光刻膠，AZ系列正膠，SU-8系列負(fù)膠等，在各種厚膠與薄膠應(yīng)用中有著出色的表現(xiàn)

非平表面直寫功能

整機(jī)恒溫系統(tǒng)，保證佳的性能

DaLI無掩膜納米光刻機(jī)采用了超越光刻技術(shù)限的亞納米AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度可達(dá)0.1nm。為充分發(fā)揮AOD技術(shù)的優(yōu)勢(shì)，我們建立了整機(jī)恒溫系統(tǒng)，控溫精度可達(dá)±0.1℃，將設(shè)備所有部件和溫差形變和熱漂移降到低，從而實(shí)現(xiàn)真正的高精度光刻。

先進(jìn)的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm
A. 可以獲得任意平滑、銳利的結(jié)構(gòu)邊緣

詳詢：廣東駿楠光子科技有限公司，https://www.junnan-optics.cn/product/dali-series-maskless-nanolithography-machine-1.html

關(guān)鍵詞：激光直寫光刻機(jī) 光刻機(jī) 無掩模光刻機(jī)

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